「スキルアップのための電子分光法講座」プログラム
２０００年２月２日（水）〜２月３日（木）金属材料技術研究所材料試験所会議室
| 時間 | 講演題目 | 講師 | 講演内容（予定） |
|---|---|---|---|
| 10:00-10:10 | 開会の挨拶 | − | 事務連絡 |
| 10:10-11:00 | 固体中の電子の運動を見る | 城 昌利 （電子技術総合研究所） |
・固体内での電子の相互作用（ピーク、バックグラウンドになる電子）、 分析深さ、IMFP、DDF 等。 ・バックグランドを解析するための予備知識 |
| 11:00-11:50 | エネルギー軸・強度軸をそろえる | 吉武 道子 （金属材料技術研究所） |
・電子分光の標準化 ・エネルギ軸 強度軸校正の必要性 有用性 |
| 13:00-13:50 | 試料を取り付ける | 當麻 肇 （日産アーク） |
・試料の前処理から取り付けまで ・変わった形状の試料 絶縁物試料取り付けの注意 修飾法 |
| 13:50-14:40 | チャージアップを抑える | 岩井 秀夫 （アルバック・ファイ） |
・チャージアップ防止測定方法（試料取り付け以降） ・チャージアップ補正方法 不均一チャージアップの見分け方 |
| 15:00-15:50 | 試料損傷を抑える | 三浦 薫 （トクヤマ） |
・試料損傷の実例 評価方法 ・損傷を抑える分析方法 |
| 15:50-16:40 | 深さ方向情報を得る | 荻原 俊弥 （ジャパンエナジー） |
・測定方法 スパッタ収率について ・Logistic 関数を用いたオージェデプスプロファイルの定量的評価方法 |
| 16:40-17:00 | 本日の質疑 | 講師全員 | |
| 18:00-20:00 | 懇親会 | ||
| 時間 | 講演題目 | 講師 | 講演内容（予定） |
| 10:00-11:00 | データ処理の裏側 | 高橋 和裕 （島津製作所） |
・各種データ処理方法のアルゴリズム ・適切なデータ処理方法（スムージング、バックグラウンド、ピーク分離） |
| 11:00:-12:00 | ＸＰＳスペクトルを解析する | 名越 正泰 （ＮＫＫ基盤技術研究所） |
・スペクトルに現れるもの、バックグラウンドから得られる情報 ・定性分析の注意点 定量分析からわかること ・状態分析のコツ |
| 13:00-14:00 | ＡＥＳデータを解析する | 中村 誠 （富士通分析ラボ） |
・スペクトルに現れるもの ・状態分析の可能性 ファクターアナリシス |
| 14:00-15:00 | 情報を共有化する | 武内 豊 （電気化学工業） |
・Common Data Processing System の紹介 ・標準化とデータベースのうれしさ |
| 15:20-16:00 | 質疑 | 講師全員 | |
| 16:00-17:00 | フォローアップの説明 | 柳内 克昭 （ＴＤＫ） |
・表面分析スペクトルデータベースの利用方法 ・表面分析研究会メールグループの紹介 |
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