| 1. | 各手法共通−分析試料の前処理と取り付けに関するガイドライン（ISO 18116） |
| | | −正しい結果を得るための試料前処理と取り付け− |
| | | | 本規格では，表面分析を実際に行う者（分析実施者）に対して，
AES, SIMS, XPSなどの分析で要求される特別な試料の取扱条件，例えば，表面処理の方法や試料の装着法に関する指針が示されています．
セミナーでは，正しい結果を得るための試料前処理と取り付け方法について概説します． |
| | 各手法共通−分析前の試料の取り扱い（ISO 18117） |
| | | −正しい結果を得るための各種試料の扱い方− |
| | | | 本規格では，表面分析のサービスを受けるユーザー（依頼者）に対して，
AES, SIMS, XPSなどの分析で要求される試料の取り扱い，準備，保管と搬送についての指針が示されています．
セミナーでは，正しい結果を得るための各種試料の扱い方について概説します． |
| | 柳内克昭（TDK(株) ヘッドビジネスグループ 技術支援グループ） |
| | | |
|
| 2. | SIMS−S-SIMSにおける相対強度軸目盛の繰り返し性と整合性（ISO 23830） |
| | | −正しい強度の計測− |
| | | | Static-SIMSは材料の最表面に存在する化学種の同定や，ポリマーブレンドなどの混合物の定量的な評価に用いられます．
本規格にはこれらの評価を行う際に重要となる繰り返し性や相対強度の整合性についての評価について述べられています．
セミナーではこの規格に従って繰り返し性の評価が行えることを目指します． |
| | 伊藤博人（コニカミノルタ(株) 開発統括本部 第二技術開発センター 分析技術室） |
| | | |
|
| 3. | スパッタ深さ方向分析−スパッタ深さ測定法（TS K 0012，ISO/TR 15969） |
| | | −様々なスパッタ深さ測定法− |
| | | | 本技術報告書には，スパッタ深さ方向分布測定におけるスパッタ深さを測定するための指針が示されています．
セミナーでは，AES/XPSで現在最も一般的に用いられているSiO2換算膜厚に重点をおきながら，各種測定方法を概説します． |
| | スパッタ深さ方向分析−スパッタ速度の測定法：メッシューレプリカ法（ISO/TR 22335） |
| | | −正しいスパッタ速度の測定− |
| | | | 本技術報告書には，AES/XPSによるスパッタ深さ方向分布測定において
スパッタ速度を決定する一つの方法(メッシュ-レプリカ法)が示されています．
セミナーでは，この方法の手順や注意点について概説します． |
| | 佐藤美知子（富士通クオリティ・ラボ(株) マテリアル事業部） |
| | | |
|
| 4. | AES−帯電制御と帯電補正に用いた手法の報告方法（ISO 29081） |
| | | −絶縁物の正しいAES分析− |
| | | | 本規格には，オージェ電子分光法（AES）により 絶縁性試料を測定する際の効果的な帯電制御方法や，
帯電補正に用いた手法の報告方法の指針が示されています．
セミナーでは，実用的な各種帯電制御方法に重点をおいて概説します． |
| | 荒木祥和（(株)日産アーク マテリアル解析部） |
| | | |
|
| 5. | XPS−分析のガイドライン（ISO 10810） |
| | | −正しいXPS分析を効率よく行うために− |
| | | | 本規格には，効率的で有意義な分析結果を得るためのXPS操作方法が記されています．
セミナーでは，分析に取りかかる前に把握・考慮しておかなければならない事項や，実際に分析を行う際の手順・方法について概説します．
この規格に沿って，効果的で正確な分析が行えるようになることを目指します． |
| | 薗林豊（京都大学 大学院工学研究科 材料工学専攻 教育研究支援室） |
| | | |
|