実用表面分析セミナー '10

− ISO 規格を基礎とした表面分析の実際 −


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◆大阪地区
日時:7月23日(金)10:00−17:00
場所:大阪大学中ノ島センター 2階 講義室1
  〒530-0005 大阪市北区中之島4-3-53 TEL: 06-6444-2100
  http://www.onc.osaka-u.ac.jp/

1. 10:00-10:50
   AES, XPS分析における空間分解能と分析領域の決定法(ISO/TR19319)
   井上 雅彦(摂南大学)
  
2. 10:50-11:40
   XPSとAESの強度軸の繰り返し性と恒常性の評価法(ISO21270,24236,24237)
     −正しい計測のために−
   荒井 正浩(住友金属工業株式会社)

        (昼食:11:40-13:00 各自でお取りください)

3. 13:00-13:50
   XPSとAESの強度軸の直線性の評価法(ISO21270)
    −正しい計測のために−
   吉原 一紘(オミクロンナノテクノロジージャパン株式会社)

4. 13:50-14:40
   オージェ電子分光法装置におけるエネルギー軸校正法(ISO17973,17974)
    −元素分析と状態分析のために−
   永富 隆清(大阪大学)

        (休憩:14:40-15:0)

5. 15:00-15:50
   AES, XPS分析における感度係数法による定量(ISO18118)
    −定量性を高めるために−
   田沼 繁夫(独立行政法人 物質・材料研究機構)

6. 15:50-16:40
   ISO規格における代表的な表面分析用語解説(ISO18115)
   後藤 敬典(独立行政法人 産業技術総合研究所)

7. 16:40-17:00
   総合討論

◆東京地区
日時:7月28日(水)10:00−17:00
場所:物質・材料研究機構 目黒地区 材料データベース棟(51棟) 302会議室
  〒153-0061 東京都目黒区中目黒2-2-54 TEL: 03-3719-2727(代表)
  (クリープ棟(50号棟)ではなく,材料データベース棟(51号棟)です.ご注意ください)
  http://www.nims.go.jp/nims/office/tokyo_meguro.html

1. 10:00-10:50
   AES, XPSの装置性能パラメータの記述法(ISO15470,15471)
    −装置比較のために−
   鈴木 峰晴(アルバック・ファイ株式会社)

2. 10:50-11:40
   分析試料の前処理・取付け方法と帯電補償・補正に関する記述方法(ISO 18116,19318)
   當麻 肇(株式会社 日産アーク)

        (昼食:11:40-13:00 各自でお取りください)

3. 13:00-13:50
   XPSのバックグラウンド処理法(ISO/TR18392) 
   福島 整(独立行政法人 物質・材料研究機構)

4. 13:50-14:40
   XPSとAESの強度軸の直線性の評価法(ISO21270)
    −正しい計測のために−
   吉原 一紘(オミクロンナノテクノロジージャパン株式会社)

        (休憩:14:40-15:0)

5. 15:00-15:50
   XPSのエネルギー軸の校正法(ISO15472)
    −状態分析のために−
    橋本 哲(JFEテクノリサーチ株式会社)

6. 15:50-16:40
   AES, XPS分析における感度係数法による定量(ISO18118)
    −定量性を高めるために−
   田沼 繁夫(独立行政法人 物質・材料研究機構)

7. 16:40-17:00
   総合討論